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ジオマテック株式会社6907)の決算・業績分析

ジオマテック株式会社の2026年有価証券報告書をAI分析。売上高60.1億円。営業利益3.4億円。電気機器

目次
SUMMARY — 業績サマリー

ジオマテック株式会社2026年度 業績サマリー

ジオマテック株式会社(証券コード: 6907)の2026年度決算・業績分析。売上高は60.1億円。営業利益は3.4億円。純利益は6.4億円。有価証券報告書を基に、業績変化の要因・リスク・見通し・セグメント構成を AI が分析しました。

ジオマテック株式会社の配当金・配当利回り推移(直近5年)

有価証券報告書ベースの1株当たり配当金(DPS)、配当性向、EPSの年次推移。

年度1株配当(円)配当性向EPS(円)
2026年度00.0%80.76
2025年度00.0%45.56
2024年度0--211.05
2023年度0--46.26
2022年度0--10.15

ジオマテック株式会社の従業員数・平均年収・平均勤続年数の推移

有価証券報告書の「従業員の状況」に基づく年次推移(直近5年)。 従業員数・平均年収は提出会社(単体)の値です。 持株会社の場合は本社人員のみが集計対象となるため、グループ全体の平均年収とは大きく異なることがあります。

年度従業員数平均年齢平均勤続年数平均年収
2022年度394人44.6歳21.3年433万円
2021年度398人44.2歳21.3年446万円
2020年度438人45歳21.9年445万円
2019年度443人44.5歳21.5年447万円
2018年度446人43.3歳21.6年438万円

ジオマテック株式会社の事業内容

ジオマテック株式会社(E02431) 有価証券報告書 3【事業の内容】 当社は、ディスプレイ、モビリティ、半導体・電子部品、その他品目向け製品の製造・販売、成膜関連部材の販 売、成膜関連サービスの提供等を行っております。 当社の事業内容は次のとおりであります。なお、当社は成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、セグメン ト別の記載を行っておりません。 (1)ディスプレイ 主に液晶表示パネル用としてのITO、メタル等を成膜した基板や商材 (主な用途) スマートフォン、タブレット、自動車、その他モバイル機器等の表示用又はタッチパネル用基板 (2)モビリティ 主に交通・移動手段に関連する機器用としてのカバーパネル、ヒーター商材、g.moth®商材、その他商材 (主な用途) 自動車、鉄道、船舶、航空機、その他輸送用機器、及び道路・交通インフラ設備 (3)半導体・電子部品 主に電気・電子機器、精密機器用として成膜した基板や商材 (主な用途) 半導体、センサー、太陽電池、燃料電池、通信デバイス (4)その他 主に上記以外の成膜製品、成膜加工用部材、表面加工ソリューションサービス等 事業系統図は次のとおりであります。 (注)原材料(成膜対象となる基板等)については、得意先から有償または無償で支給される場合と自社で 調達する場合があります。

ジオマテック株式会社の沿革(29件)

有価証券報告書「沿革」セクションから自動抽出し、内容からM&A・新事業・国際展開などのカテゴリを推定して色分け表示しています。

設立×2上場×4M&A×1新事業×3資本×1組織×4撤退×2
2022
M&A8月

吉奥馬科技(無錫)有限公司の全出資持分を譲渡

資本4月

東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所のJASDAQ(スタンダード)か らスタンダード市場に移行

その他4月

4日より東京証券取引所スタンダード市場におけるものであり、それ以前に ついては東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)におけるものであります。 2【沿革】 年月 事項

2020
その他3月

31日)等を第69期の期首から適用してお り、第69期以降に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を適用した後の指標等となっておりま す。 6.最高・最低株価は、

2019
その他3月

金成テクノセンターを休止し金成工場に集約

2013
上場7月

東京証券取引所と大阪証券取引所の統合に伴い、東京証券取引所JASDAQ(スタンダード) に上場

2011
撤退4月

厚木工場を廃止しR&Dセンターに統合

2010
上場4月

ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所JASDAQに上場

2007
その他12月

吉奥馬科技(無錫)有限公司に第二工場を建設

撤退4月

大阪営業所を廃止し本社営業部に統合

2004
上場12月

日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場

2002
設立7月

中国江蘇省無錫市に吉奥馬科技(無錫)有限公司を設立

2001
その他6月

神奈川県厚木市に厚木工場を設置

1996
その他3月

本社を神奈川県横浜市西区に移転

1994
上場11月

日本証券業協会に株式を店頭登録

1992
その他8月

西日本の生産拠点として、兵庫県赤穂市に赤穂工場を建設

組織4月

商号をジオマテック株式会社に変更

1990
その他9月

東京都大田区に研究開発室(現、R&Dセンター)を設置し、開発体制を強化

その他3月

大阪府大阪市西区に大阪営業所を設置

1988
組織9月

商号を松崎真空株式会社に変更

1987
その他9月

宮城県栗原郡金成町(現、宮城県栗原市)に金成第二工場(現、金成工場)を建設

1986
その他5月

宮城県栗原郡築館町(現、宮城県栗原市)に築館城生野工場(現、築館倉庫)を建設

1975
その他3月

宮城県栗原郡金成町(現、宮城県栗原市)に金成第一工場(後の金成テクノセンター)を建設

1972
新事業3月

酸化インジウムによる透明導電膜(ITO膜)の生産を開始

1964
新事業6月

酸化スズによる透明導電膜の生産を開始

1960
組織6月

商号を松﨑真空被膜株式会社に変更

1959
新事業2月

東京都大田区に多摩川工場(現、R&Dセンター)を建設し、各種金属表面鏡の生産を開始

1958
組織8月

商号を松﨑光学株式会社に変更

1953
設立9月

真空成膜による光学部品の製造及び販売を目的とし、東京都品川区に資本金30万円で松﨑光学精 密硝子株式会社を設立

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