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JX金属株式会社5016)の決算・業績分析

JX金属株式会社の2026年有価証券報告書をAI分析。売上高8,846億円(+23.7%)。営業利益1,750億円。非鉄金属

目次
SUMMARY — 業績サマリー

JX金属株式会社2026年度 業績サマリー

JX金属株式会社(証券コード: 5016)の2026年度決算・業績分析。売上高は8,846億円(前年比+23.7%)。営業利益は1,750億円(前年比+55.5%)。純利益は1,046億円(前年比+53.3%)。有価証券報告書を基に、業績変化の要因・リスク・見通し・セグメント構成を AI が分析しました。

JX金属株式会社の従業員数(提出会社単体)は3,267人、 平均年収は765万円、平均年齢41歳、平均勤続年数12.3年です。平均年収は有価証券報告書の提出会社(単体)ベースで、持株会社の場合はグループ全体の平均と大きく異なることがあります。

JX金属株式会社2026年度 注目ポイント

  1. ENEOS HD系電気銅・電子材料世界トップ級、半導体スパッタリングターゲット世界首位。AI半導体需要の中核プレーヤー
  2. 営業利益 1,750億・純利益 1,046億のクアッド爆増、AI半導体需要中核

JX金属株式会社の売上高変化の要因

  • 営業利益+55.5%・経常+57.3%・純利益+53.3% のトリプル爆増覚醒
  • 営業利益 1,750億・純利益 1,046億の兆円ハイクラス
  • ROA 12.1% (前期8.2%) で非鉄金属業界キングダム資本効率
  • AI半導体パッケージ基板用電解銅箔需要爆発、Nvidia・TSMC向け追い風
  • 銅価格上昇でフォーミュラ売上拡大
  • スパッタリングターゲット世界首位の地位活用

JX金属株式会社の事業リスクと対応

銅価格変動リスク

対応: ヘッジ

半導体市況の循環性

対応: 顧客分散

中国半導体規制・地政学リスク

対応: 顧客分散

競合(住友金属鉱山)との競争

対応: 技術差別化

電子材料事業の競合激化

対応: 高採算品強化

JX金属株式会社の今後の見通し・業績予想

営業利益 1,900億(+8.6%)・経常利益 1,780億(+5.3%)・純利益 1,140億(+8.9%)、AI特需継続

JX金属株式会社の配当金・配当利回り推移(直近2年)

有価証券報告書ベースの1株当たり配当金(DPS)、配当性向、EPSの年次推移。

年度1株配当(円)配当性向EPS(円)
2026年度2421.3%112.94
2025年度91.55124.5%73.53

JX金属株式会社の役員一覧(取締役・執行役員)

最新の有価証券報告書に記載されている役員(上位10名)。

役職氏名所有株式数(株)
代表取締役会長村山誠一19
代表取締役社長 社長執行役員林陽一19
取締役 副社長執行役員菅原静郎19
取締役 副社長執行役員太内義明12
社外取締役所千晴(注1)-
社外取締役伊藤元重(注1)-
取締役 常勤監査等委員黒岩源洋-
社外取締役 監査等委員佐久間総一郎(注2)-
社外取締役 監査等委員二宮雅也(注2)-
社外取締役 監査等委員川口里香(注2)(注6)-

JX金属株式会社の従業員数・平均年収・平均勤続年数の推移

有価証券報告書の「従業員の状況」に基づく年次推移(直近1年)。 従業員数・平均年収は提出会社(単体)の値です。 持株会社の場合は本社人員のみが集計対象となるため、グループ全体の平均年収とは大きく異なることがあります。

年度従業員数平均年齢平均勤続年数平均年収
2025年度3,267人41歳12.3年765万円

JX金属株式会社の大株主・株主構成

最新の有価証券報告書に記載されている大株主(上位10名)。

順位株主名所有株式数(千株)所有比率
1ENEOSホールディングス㈱393,52942.38%
2STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505325 (常任代理人 ㈱みずほ銀行決済 営業部)30,0003.23%
3MSIP CLIENT SECURITIES (常任代理人 モルガン・スタン レーMUFG証券㈱)25,4082.74%
4BNYM SA/NV FOR BNYM FOR BNYM GCM CLIENT ACCTS M ILM FE (常任代理人 ㈱三菱UFJ銀 行)14,0031.51%
5GIC PRIVATE LIMITED-C (常任代理人 ㈱三菱UFJ銀 行)13,9241.50%
6日本マスタートラスト信託銀行 ㈱(信託口)12,7691.38%
7NOMURA INTERNATIONAL PLC A/C JAPAN FLOW (常任代理人 野村證券㈱)6,3130.68%
8楽天証券㈱6,0330.65%
9JP JPMSE LUX RE UBS AG LONDON BRANCH EQ CO (常任代理人 ㈱三菱UFJ銀 行)5,5140.59%
10BNY GCM CLIENT ACCOUNT JPRD AC ISG(FE-AC) (常任代理人 ㈱三菱UFJ銀 行)5,3480.58%

JX金属株式会社の事業内容

JX金属株式会社(E01081) 有価証券報告書 3 【事業の内容】 当社グループは、半導体・情報通信分野に欠かせない銅やレアメタルを原料とする先端素材の開発・製造・販売を 主な内容としてグローバルな事業活動を行っており、半導体用スパッタリングターゲットや圧延銅箔を主力製品とし ています。これらに加えて、銅やレアメタルの資源開発や、製錬・リサイクル事業を手掛けており、上流から下流ま でをつなぐ強固なサプライチェーンを有することにより、安定的に先端素材をマーケットに供給し、持続可能な経 済・社会の発展に貢献しています。 当社グループは、半導体材料セグメント、情報通信材料セグメント、基礎材料セグメントの3つの報告セグメント にて構成されています。成長戦略のコアである半導体材料セグメントと情報通信材料セグメントをフォーカス事業と 位置づけ、先端素材分野での技術の差別化や市場創造を通じて、市場成長以上の利益成長を目指しています。一方、 基礎材料セグメントをベース事業と位置づけ、銅・レアメタルの安定供給を通じてフォーカス事業を支える役割を 担っています。各報告セグメントの主要製品、主要会社は以下のとおりです。 事業部・ 区分 セグメント 主要製品 主要な会社 事業会社 フォーカ 半導体 薄膜材料事業部 半導体用スパッタリングターゲッ 当社、JX Advanced Metals USA, ス事業 材料 ト、高純度金属、表面処理剤、化 Inc.、JX Advanced Metals 合物半導体・結晶材料 Singapore Pte.Ltd.、 JX Advanced Metals Korea Co., Ltd.、JX金属商事㈱、台湾日鉱 金属股份有限公司 タンタル・ タンタル・ニオブ金属粉末、タン 当社、TANIOBIS GmbH、東京電解 ニオブ事業部 タル・ニオブ酸化物粉末、塩化 ㈱ 物・化合物 情報通信 機能材料事業部 圧延銅箔、チタン銅、コルソン合 当社、JX METALS PHILIPPINES, 材料 金 Inc.、日鉱金属(蘇州)有限公司、 JX金属商事㈱、台湾日鉱金属股 份有限公司 東邦チタニウム 超微粉ニッケル、高純度酸化チタ 東邦チタニウム㈱ ン、触媒製品、スポンジチタン、 チタンインゴット タツタ電線 電磁波シールドフィルム、導電性 タツタ電線㈱ ペースト、ボンディングワイヤ、 インフラ・産業機器用電線 ベース 基礎 資源事業部 銅精鉱、電気銅、モリブデン精 当社、SCM Minera Lumina Copper 事業 材料 鉱、含金珪酸鉱、タンタル精鉱 Chile、Minera Los Pelambres、 Minera Escondida 金属・リサイク 電気銅、型銅、貴金属、硫酸 当社、JX金属製錬㈱、パンパシ ル事業部 フィック・カッパー㈱、JX金属 サーキュラーソリューションズ ㈱、eCycle Solutions Inc.、J X金属商事㈱、台湾日鉱金属股份 有限公司 JX金属株式会社(E01081) 有価証券報告書 以下の事業区分は「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 注記7.セグメント情報」に掲げるセグメントの区分と 同一であり、各事業を構成する主要な関係会社の状況については、「第1 企業の概況 4 関係会社の状況」に記載し ています。 (1) 半導体材料セグメント (薄膜材料事業部) 高純度化や組成・組織制御などの当社のコア技術を駆使し、半導体や磁性材料向けのスパッタリングターゲット をはじめ、各種高機能デバイス、最先端IT機器、医療機器、電気自動車に用いられる製品をグローバルに展開して います。中でも、ロジックやメモリに用いられる半導体用スパッタリングターゲットが主力製品であり、市場規模 1,462億円のマーケットにおいて世界シェアは64%(注1)です。当社は様々な素材の半導体用スパッタリングター ゲットを取り扱っており、半導体の主要配線層に用いられる銅や銅合金、そのバリア層に用いられるタンタルに加 えて、半導体の回路形成やトランジスタ部分等に用いられるチタン、コバルト及びタングステンの製品で世界シェ アNo.1です(注2)。 半導体はシリコンウエハ上に数百回以上にわたり回路を形成して製造されますが、半導体用スパッタリングター ゲットは回路形成に必要となる素材の層をつくる工程(成膜工程)の材料として用いられます。成膜に当たっては、 真空状態の装置内でスパッタリングターゲットにアルゴンイオンを衝突させ、放出したターゲット原子を基板(シリ コンウエハ等)上に付着させることによって薄膜を形成します。半導体が目的とする機能を発揮するためには様々な 種類の高純度素

JX金属株式会社の子会社・関連会社(上位15社)

有価証券報告書「関係会社の状況」に基づく主要子会社・関連会社。

会社名区分所在地事業内容議決権比率
JX Advanced Metals USA, Inc.(注4)-Chandler, U.S.A.薄膜材料製品の加工受託・販売100.0%
JX Advanced Metals Singapore Pte. Ltd.(注5)-Singapore薄膜材料製品の販売100.0%
JX Advanced Metals Korea Co., Ltd.(注6)-韓国 平澤市薄膜材料製品の製造・販売100.0%
TANIOBIS GmbH-Goslar, Germany高機能タンタル・ニオブ材料の 製造・販売100.0%
東京電解㈱-東京都 江東区高機能タンタル・ニオブ材料の 製造・販売100.0%
JX METALS PHILIPPINES, Inc.-Laguna, Philippines圧延銅箔・電解銅箔の製造・販 売100.0%
日鉱金属(蘇州)有限公司(注 1)-中国 蘇州市ステンレス圧延製品及び伸銅品 の製造・販売100.0%
東邦チタニウム㈱ (注1,2)-神奈川県 横浜市チタンの製造・販売50.4%
タツタ電線㈱(注7)-大阪府 東大阪市電線・ケーブル、電子材料の製 造・販売100.0%
JX金属製錬㈱-東京都 港区非鉄金属製錬受託100.0%
JX金属サーキュラーソリューションズ㈱(注1,8)-東京都 港区リサイクル原料・リチウムイオ ン電池の集荷80.0%
eCycle Solutions Inc.(注 1,3)-Mississauga, Canada非鉄金属リサイクル原料の集 荷・前処理66.0%
Nippon LP Resources UK Limited(注1,3)-London, United KingdomLos Pelambres銅鉱山への投資100.0%
JX金属商事㈱(注1)-東京都 新宿区非鉄金属製品等の販売100.0%
台湾日鉱金属股份有限公司 (注3)-台湾 桃園市伸銅品のスリット加工及び販売 薄膜材料の販売及び加工受託 非鉄金属リサイクル原料の集荷100.0%

JX金属株式会社の沿革(30件)

有価証券報告書「沿革」セクションから自動抽出し、内容からM&A・新事業・国際展開などのカテゴリを推定して色分け表示しています。

設立×13上場×3M&A×2新事業×2国際×2組織×3
2025
上場3月

東京証券取引所プライム市場に株式を上場 これに伴い、ENEOSホールディングス株式会社が当社の親会社からその他の関係会社に異動(同社 の当社に対する持分比率42.38%)

2024
上場3月

パンパシフィック・カッパー株式会社の株式の20%及びロス・ペランブレス銅鉱山権益を保有するオ ランダ子会社の株式13.06%(権益3.27%相当)を、丸紅株式会社に譲渡 5月 英文商号をJX Advanced Metals Corporationに変更 7月 三菱商事株式会社との合弁により設立したJX金属サーキュラーソリューションズ株式会社(当社持分 比率80%)が事業開始 8月 タツタ電線株式会社の公開買付が成立し、同社を子会社とする(同年11月に同社を完全子会社化)

その他7月

に 追加で権益19%を譲渡) 12月 JX金属プレシジョンテクノロジー株式会社の株式の過半を譲渡(譲渡後の当社持分比率15%)

2022
その他8月

カナダ・eCycle Solutions Inc.の株式を取得し、同社を子会社とする 9月 韓国・LS-Nikko Copper Inc.の当社グループ保有株式全て(49.9%)を譲渡

2019
その他6月

JX金属グループ2040年長期ビジョン策定

2018
M&A6月

東邦チタニウム株式会社の株式50.38%を取得し、同社を子会社とする 7月 ドイツ・H. C. Starck Tantalum & Niobium社(現 TANIOBIS GmbH)の株式取得により同社を子会社化 することで、レアメタル事業を強化

2016
組織1月

JX日鉱日石金属株式会社がJX金属株式会社に商号変更

2014
その他7月

チリ・カセロネス銅鉱山・開山式を挙行

2010
設立4月

新日鉱ホールディングス株式会社及び新日本石油株式会社が株式移転によりJXホールディングス株 式会社(現 ENEOSホールディングス株式会社)を設立し、両社は同社の完全子会社となる 7月 新日鉱ホールディングス株式会社が(新)日鉱金属株式会社を合併し、JX日鉱日石金属株式会社に商 号変更

2006
M&A4月

株式会社日鉱マテリアルズが(旧)日鉱金属株式会社及び日鉱金属加工株式会社を合併し、(新)日鉱金 属株式会社に商号変更

2005
設立12月

NMU Division, Inc.(現 JX Advanced Metals USA Inc.)設立

2004
設立8月

韓国日鉱マテリアルズ社(現 JX Metals Korea Co., Ltd.)設立

2003
設立10月

(旧)日鉱金属株式会社の金属加工事業を分離・独立させ、日鉱金属加工株式会社を設立 12月 日鉱宇進精密加工(蘇州)有限公司(現 日鉱金属(蘇州)有限公司)設立

2002
設立9月

株式会社ジャパンエナジーと(旧)日鉱金属株式会社が株式移転により新日鉱ホールディングス株式会 社(現 JX金属株式会社)を設立し、両社は同社の完全子会社となる

2000
設立10月

(旧)日鉱金属株式会社と三井金属鉱業株式会社の合弁により、パンパシフィック・カッパー株式会社 設立 EDINET提出書類 JX金属株式会社(E01081) 有価証券報告書 〔提出会社設立以降〕 年月 概要

1999
設立4月

株式会社ジャパンエナジーの電子材料事業を分離・独立させ、株式会社日鉱マテリアルズを設立

1998
上場8月

(旧)日鉱金属株式会社、東証第一部上場

1996
設立5月

GNFフィリピン社(現 JX METALS PHILIPPINES, Inc.)設立

1993
組織12月

株式会社日鉱共石が株式会社ジャパンエナジーに商号変更

1992
設立5月

(旧)日鉱金属株式会社設立 11月 日本鉱業株式会社が金属資源開発部門、金属事業部門及び金属加工事業部門を(旧)日鉱金属株式会社 に譲渡 12月 日本鉱業株式会社が共同石油株式会社を合併し、株式会社日鉱共石に商号変更

1989
設立10月

ニッポン・マイニング台湾社(現 台湾日鉱金属股份有限公司)設立

1985
国際5月

磯原工場(茨城県)開設、電子材料事業へ本格進出

1981
その他9月

日立鉱山、鉱量枯渇により閉山

1978
新事業3月

日立事業所にリサイクル炉新設、リサイクル事業を開始

1964
国際10月

倉見工場(神奈川県)開設、金属加工事業に本格進出

1948
設立2月

東邦商事株式会社(現 JX金属商事株式会社)設立

1929
設立4月

日本産業株式会社の鉱山・製錬部門を分離・独立させ、日本鉱業株式会社を設立

1928
組織12月

久原鉱業株式会社が日本産業株式会社に商号変更

1916
新事業9月

佐賀関製錬所(現 JX金属製錬株式会社 佐賀関製錬所、大分県)操業開始、金属製錬事業を拡張

1912
設立9月

久原鉱業株式会社設立

JX金属株式会社のAI業績分析レポート(2026年度)

JX金属 (5016)|2026年3月期 ★AI半導体覚醒

営業利益 1,750億 (+55.5%)
経常利益 1,691億 (+57.3%)
純利益 1,046億 (+53.3%)
ROA 12.1%

ENEOS HD系電気銅・電子材料(スパッタリングターゲット世界首位)。AI半導体特需でクアッド爆増覚醒。

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